高频电容
来源于上海凯茵化工
更新于 2026.08.20
38
目前制造的工艺情况下,在集成电路中很难将大容量电容集成进去,只能集成电容量较小的电容。目前使用较多就是MOS等效电容。材料是高纯度硅、磷、铝、二氧化硅等,使用的工艺有:扩散、外延生长。在半导体中掺金就可以减少在流体寿命,提高复合的几率,金能够提供多个复合中心,使制造高速器件常用的工艺!
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更新于 2026.08.20
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目前制造的工艺情况下,在集成电路中很难将大容量电容集成进去,只能集成电容量较小的电容。目前使用较多就是MOS等效电容。材料是高纯度硅、磷、铝、二氧化硅等,使用的工艺有:扩散、外延生长。在半导体中掺金就可以减少在流体寿命,提高复合的几率,金能够提供多个复合中心,使制造高速器件常用的工艺!
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